應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)(殘余應(yīng)力測量)可以在深紫外（193nm）波段進行應(yīng)力雙折射探測。針對特定材料制作（氟化鈣）和特定形狀（非球面透鏡）的技術(shù)解決方案。
應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)，非球面透鏡應(yīng)力雙折射測量，應(yīng)力橢偏儀，應(yīng)力橢偏測量,殘余應(yīng)力測量
不規(guī)則非球面光學元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)（應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)）通過對光的調(diào)制解調(diào)可以測出待測光學元件中的雙折射大小和方向，這些數(shù)據(jù)同時也表示了應(yīng)力的大小和方向。這套不規(guī)則非球面光學元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)的傾斜，多角度入射掃描技術(shù)可以保證對非球面不規(guī)則的光學元件（光刻機透鏡等）有著的掃描測量解決方案。
應(yīng)力雙折射系統(tǒng)用于殘余應(yīng)力檢測。該應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)既可作為實驗室科研探索測量光學組件應(yīng)力分布測量，也可用作諸如玻璃面板，透鏡，晶體，單晶硅/多晶硅、注塑成品等工業(yè)生產(chǎn)中檢測產(chǎn)品應(yīng)力分布。產(chǎn)品軟件直觀顯示待測樣品應(yīng)力情況，便于操作和日常監(jiān)測。
應(yīng)力雙折射系統(tǒng)(殘余應(yīng)力檢測)可以根據(jù)客戶需求選擇設(shè)置，使得測量更有針對性（高精度/大范圍相位延遲量），系統(tǒng)有著*測量速度的同時也具有*的測量分辨能力（<1 mm grid spacing ），150AT應(yīng)力雙折射系統(tǒng)也提供傾斜位移平臺等設(shè)計來幫助客戶完成一些非常規(guī)掃描/測量需求。
產(chǎn)品特點：
1、自動X/Y位移平臺掃描
2、臺式整機設(shè)計組裝
3、靈活位移平臺設(shè)計，滿足個性化定制需求
4、數(shù)據(jù)擬合分析功能和友好用戶界面
5、二維/三維圖形/參數(shù)表格顯示樣品應(yīng)力分布測量結(jié)果。
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